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自动电位滴定仪电位滴定测定镀铜槽液铜离子

更新时间:2025-08-26      点击次数:15

关键词:镀铜槽液

行业:半导体


MT-V6自动电位滴定仪电位滴定测定镀铜槽液铜离子


摘要

镀铜槽液铜离子的经典测定方法为容量滴定法,络合滴定是其中常用方法之一。本试验通过MT-V6自动电位滴定仪来测定某镀铜槽液铜离子含量。


仪器配置

●MT-V6电位滴定仪

MT-V6自动电位滴定仪

●Cu-101&R-101D

●20mL高精度计量管

●100mL滴定杯


试剂配置

●滴定剂:EDTA标准溶液

●滴定度:0.1mol/L

●溶剂:纯水

●反应剂:氨氯化铵缓冲溶液


测定方法

●络合滴定/电位滴定

●称取一定量试样于烧杯中,再加50mL纯水,5mL氨氯化铵缓冲溶液,插入电极和滴定头,设置好滴定方法和参数,用标定好的EDTA标准溶液滴定至终点


仪器参数

●最小滴定体积:10μL

●最大滴定体积:100μL

●搅拌速度:200

●每滴间隔:1000ms

●终点模式:微分判定

●微分设置:200


测试数据

●环境温度:25℃

●环境湿度:51%

●测试时间:5min

序号

样品量/mL

终点体积/mL

测试结果/(g/L)

平均值/(g/L)

1

0.267

2.9421

70.03

 69.99

2

0.254

2.8138

70.40

3

0.258

2.8236

69.55

测试结果:经测试样品铜含量约为69.99g/L。

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